有机分子束外延设备

极限真空度：好于E-8Pa ，样品加热温度150℃，束源炉温控精度±1℃

该设备由生长室、预处理室、真空系统等组成

• 真空系统由机械泵、分子泵和离子泵等组成；
• 生长室由十个MASK箱、上下液氮冷阱、样品架三维工作台、磁力送样杆和加热部件等组成。
• 预处理室主要包括MASK箱、送样杆、样品台、送样机构、手套箱接口、退火炉等。